行业资讯
- 揭秘远程微波PECVD系统(远程微波等离子体化学气相沉积)
- Nano-Master的远程微波等离子体化学气相沉积(PECVD)系统应用范围广泛,包含:基片或粉体的等离子诱导表面改性等离子清洗粉体或颗粒表面等离子聚合SiO2,Si3N4或DLC及其他薄膜CNT和石墨烯的选择性生长单晶或多晶金刚石生长微波模块:NANO-MASTER独J专利技术的高质量长寿命远程微波源,频率为2.45GH,微波发射功率可以自主调节,微波反射功率可通过调节降低至发射功率的千分之一以内。远程微波源,可实现无损伤缺陷的沉积或生长。设备腔体:水冷侧壁,确保在高温工艺下腔体外表面温度控制在60℃内;在高温工艺进行过程中,等离子体被束缚在有限的体积内,不会对腔体造成刻蚀。样品台:可自
- 2023-12-23 13:19:01
- 揭秘远程微波等离子去胶机
- NPC-3500型微波等离子去胶机微波等离子去胶机工作原理:为了产生等离子,系统使用远程微波源。氧在真空环境下受高频及微波能量作用,电离产生具有强氧化能力的游离态氧原子,它在高频电压作用下与光刻胶薄膜反应,反应后生成的 CO2 和 H2O 通过真空系统被抽走。CF4 气体可以达到更快速的去胶速率,尤其对于难以去除的光刻胶也具备出色的去除能力。在微波等离子体氛围中,活性气体被等离子化,将跟光刻胶产生化学反应,反应生产的化合物通过真空泵被快速抽走,可以达到高效的去胶效果。该去胶机微波源为远程微波源,轰击性的离子将被过滤掉之后微波等离子进入到工艺腔室参与反应,因此可以实现无损的去胶。微波等离子去胶
- 2023-12-11 11:17:35
- 福州大学离子束刻蚀机顺利验收
- 烈日炎炎,热情满心间!后疫情时代,NANO-MASTER工程师步履不停,一站接一站为客户提供设备安装调试服务。首站福州大学,那诺-马斯特工程师已顺利安装验收NIE-3500型离子束刻蚀机!性能配置:离子束刻蚀机用于刻蚀金属和介质,z大可支持6”晶圆。配套美国考夫曼-罗宾逊 KDC160离子枪,650mA,100-1200V。刻蚀速率:~250A/min对Au;刻蚀均匀度:对4”片,片内均匀性优于±3%,重复性优于±3%。样品台可旋转,转速0-30RPM可控;可任意角度倾斜,支持斜齿刻蚀;带水冷功能,刻蚀后易去除光刻胶。极限真空12小时可达6x10-7Torr,15分钟可达10-6Torr量级
- 2023-11-26 11:28:07